特許
J-GLOBAL ID：201003024303937059

反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系

発明者：
チャン ダニー

チャン ダニー について

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マン ハンス ユールゲン

マン ハンス ユールゲン について

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ミグラ サシャ

ミグラ サシャ について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー について


代理人 (6件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  西島 孝喜 ,  須田 洋之 ,  上杉 浩
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-521307
公開番号（公開出願番号）：特表2010-537413
出願日： 2007年08月20日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：
フォトリソグラフィ機器において短波長放射線を用いる用途のための反射コーティングを備えたミラー要素を有する光学系を提供する。光学系は、物体面内の物体視野から像面内の像視野へと波長λの放射線を結像させるように配列された複数の要素を含む。要素は、放射線の経路に位置決めされた反射コーティングによって形成された反射面を有するミラー要素を含む。ミラー要素のうちの少なくとも1つは、1つ又はそれよりも多くの位置において最良適合回転対称反射面から約λ又はそれよりも多く偏位する回転非対称反射面を有する。要素は、補正要素を持たない光学系に対して光学系の出射瞳内の空間強度分布を補正するのに有効であるアポディゼーション補正要素を含む。好ましくは、アポディゼーション補正要素は、アポディゼーション補正要素を持たない光学系に対して出射瞳内の空間強度分布の対称性を高めるのに有効である。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
物体面内の物体視野から像面内の像視野へと波長λの放射線を結像させるように配列された複数の要素、 を含み、 前記要素は、放射線の経路に位置決めされた反射コーティングによって形成された反射面を有するミラー要素を含み、 前記ミラー要素の少なくとも1つは、1つ又はそれよりも多くの位置で最良適合回転対称反射面から約λ又はそれよりも大きく偏位する回転非対称反射面を有し、 前記要素は、補正要素を持たない光学系に対して光学系の出射瞳内の空間強度分布を補正するのに有効であるアポディゼーション補正要素を含む、 ことを特徴とする光学系。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G02B 17/00 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/10
FI (4件)：
H01L21/30 515D ,  G02B17/00 A ,  G02B5/08 A ,  G02B5/10
Fターム (15件)：
2H042DA01 ,  2H042DA09 ,  2H042DD05 ,  2H087KA21 ,  2H087LA27 ,  2H087NA01 ,  2H087NA02 ,  2H087NA04 ,  2H087RA06 ,  2H087RA45 ,  2H087TA02 ,  2H087TA06 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046CB25
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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