特許
J-GLOBAL ID：201003028231459292
データ処理装置およびディザパターン製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-163397
公開番号（公開出願番号）：特開2010-233271
出願日： 2010年07月20日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：
【課題】異なる複数の色のインクを用い記録を行う際のグレインの発生を抑制しビーディングによる画質劣化を軽減できるディザパターンを提供する。【解決手段】斥力ポテンシャルの合計が計算される各閾値ドットの中で、例えば、閾値ドットDoが斥力ポテンシャルの合計が最も大きい場合、その移動前後の斥力ポテンシャルの変化を求め、移動前後で最も斥力ポテンシャルの合計が低くなる画素に閾値ドットDoを移動させる。このような処理を繰り返すことによって3プレーン全体の総エネルギーを下げることができ、3プレーンのディザパターンの重なりにおいて閾値ドット分布が、低周波数成分が少なく良好に分散された配置となる。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
コンピュータにおいて実行されるディザパターン製造方法であって、
第1の色の記録を行うための量子化データを生成するために用いられる第1のディザパターンにおける複数の異なる閾値の配置を決定する第1決定工程と、
第2の色の記録を行うための量子化データを生成するために用いられる第2のディザパターンにおける複数の異なる閾値の配置を前記第1のディザパターンの複数の異なる閾値の配置と異なるように決定する第2決定工程と、を有し、
前記第1決定工程は、前記第1のディザパターンに対応した、閾値を配置すべき候補位置の第1の候補位置パターンにおいて、前記第2のディザパターンに対応した、閾値を配置すべき候補位置の第2の候補位置パターンに基づいて、前記第1の候補位置パターンと第2の候補位置パターンとを論理積したパターンの低周波数成分が少なくなるように所定数の同じ閾値の配置を定める第1の工程を含み、
前記第2決定工程は、前記第2のディザパターンに対応した、閾値を配置すべき候補位置の第2の候補位置パターンにおいて、前記第1の工程において所定数の同じ閾値の配置が定められた第1の候補位置パターンに基づいて、前記第1の候補位置パターンと第2の候補位置パターンとを論理積したパターンの低周波数成分が少なくなるように所定数の同じ閾値の配置を定める第2の工程を含み、
前記第1および第2決定工程は、前記閾値が配置された候補位置を除いたそれぞれ前記第1および第2の候補位置パターンを、それぞれ次の前記第1および第2の候補位置パターンとして、前記複数の異なる閾値ごとに順次、それぞれ前記所定数の同じ閾値の配置を定める前記第1、第2の工程を繰り返す工程を含むことを特徴とするディザパターン製造方法。
IPC (3件)：
H04N 1/46
, H04N 1/60
, G06T 5/00
H04N1/46 Z
, H04N1/40 D
, G06T5/00 200A
5B057CA01
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB01
, 5B057CB07
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CE13
, 5B057CE16
, 5B057DC25
, 5C077LL04
, 5C077LL19
, 5C077NN08
, 5C077PP32
, 5C077PP33
, 5C077TT05
, 5C079HB01
, 5C079HB02
, 5C079HB12
, 5C079KA15
, 5C079LA02
, 5C079LC04
, 5C079LC13
, 5C079NA02
, 5C079PA03
