特許
J-GLOBAL ID:201003030015905940
積層ナノモールドの製造方法および材料、ならびにそれによって得られたナノ粒子
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 小笠原 有紀
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-540277
公開番号(公開出願番号):特表2010-511544
出願日: 2007年12月04日
公開日(公表日): 2010年04月15日
要約:
本発明の積層ナノモールドは、所定の形状を有する空孔を画定するペルフルオロポリエーテル層、および、ペルフルオロポリエーテル層とカップリングされる支持層を含む。また本積層体は、ペルフルオロポリエーテル層と支持層とをカップリングするつなぎ層を含んでいてもよい。またつなぎ層は、光硬化性成分、および、熱硬化性成分を含んでいてもよい。空孔は、500ナノメートル未満の最大寸法を有するものでもよい。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
所定の形状を有する空孔を画定するペルフルオロポリエーテル層;および、
該ペルフルオロポリエーテル層とカップリングされる支持層、
を含む、積層ナノモールド。
IPC (3件):
B29C 33/40
, B29C 59/02
, B32B 27/00
FI (3件):
B29C33/40
, B29C59/02 B
, B32B27/00 103
Fターム (53件):
4F100AK01B
, 4F100AK17A
, 4F100AK17C
, 4F100AK42B
, 4F100AK54A
, 4F100AL01A
, 4F100AL05C
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100CA02A
, 4F100CA30C
, 4F100DC11A
, 4F100EC18C
, 4F100EJ54
, 4F100EJ67B
, 4F100EJ67C
, 4F100JB12C
, 4F100JK07B
, 4F100JL14
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
, 4F202AJ03
, 4F202AJ09
, 4F202CA01
, 4F202CA30
, 4F202CB01
, 4F202CB29
, 4F202CD26
, 4F202CD30
, 4F209AA16
, 4F209AA26
, 4F209AA32
, 4F209AA44
, 4F209AB04
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AJ03
, 4F209AJ09
, 4F209AJ11
, 4F209PA02
, 4F209PA03
, 4F209PB01
, 4F209PB02
, 4F209PB13
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ01
, 4F209PQ11
引用特許:
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