ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-130257
公開番号（公開出願番号）：特開2010-276910
出願日： 2009年05月29日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にKrFレーザー、極短紫外線、電子線、X線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、優れた解像性とエッチング耐性を有するネガ型レジスト組成物。【解決手段】(A)アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、及び/又は、アルカリ可溶性であり、酸の作用により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベースポリマーと架橋剤の組み合わせ、(B)酸発生剤、(C)塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有するレジスト組成物であって、上記ベースポリマーとして用いるポリマーは、アセナフチレン系共重合体、あるいは該ポリマーの有する官能基を更に化学変換して得たポリマーであり、前記得られたポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、アセナフチレンモノマー由来の繰り返し単位の合計が50モル%以上であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも、 (A)アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、及び/又は、アルカリ可溶性であり、酸の作用により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベースポリマーと架橋剤の組み合わせ、 (B)酸発生剤、 (C)塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有するレジスト組成物であって、上記ベースポリマーとして用いるポリマーは、下記一般式(1)で示されるモノマーを2種以上、又は下記一般式(1)で示されるモノマー1種以上及び下記一般式(2)で示されるスチレンモノマー1種以上を含むモノマー混合物を重合して得たポリマー、あるいは該ポリマーの有する官能基を更に化学変換して得たポリマーであり、前記得られたポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、下記一般式(1)で示されるモノマー由来の繰り返し単位の合計が50モル%以上であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 , G03F 7/004 , C08F 232/08 , G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/038 601 , G03F7/004 501 , C08F232/08 , G03F1/08 A , H01L21/30 502R

Fターム (44件)：

2H095BA01 , 2H095BB12 , 2H095BC01 , 2H095BC05 , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF33P , 2H125AF38P , 2H125AM13P , 2H125AM42P , 2H125AM93P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA21P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB16 , 2H125CC01 , 2H125CC17 , 4J100AB01Q , 4J100AB02Q , 4J100AB04Q , 4J100AR09P , 4J100AR10Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BB01P , 4J100BB01Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100CA31 , 4J100DA04 , 4J100DA39 , 4J100DA40 , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100GB05 , 4J100HA53 , 4J100HC57 , 4J100HC63 , 4J100HE08 , 4J100HE22 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

レジスト下層膜材料ならびにパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-212005 出願人：信越化学工業株式会社
ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-090642 出願人：信越化学工業株式会社
ネガ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-182117 出願人：富士写真フイルム株式会社

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