特許
J-GLOBAL ID：201003036728791846
ロードポート
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐野 禎哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-307023
公開番号（公開出願番号）：特開2010-135355
出願日： 2008年12月02日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】パージ作業中であってもウェーハをFOUP内と半導体製造装置内との間で出し入れすることができるロードポートを提供する。【解決手段】共通のクリーンルーム内において半導体製造装置に隣接して設けられるロードポート1として、FOUP内部の気体雰囲気を窒素ガスに置換するパージポート(注入用パージポート23、排出用パージポート24)を有するパージステージ2と、パージステージ2に並べて設けられ且つ半導体製造装置B内に通じる開口部33及び開口部33を開閉可能なドア部34を有するオープナステージ3と、FOUPをパージステージ2とオープナステージ3との間で移動させる移動機構4とを備えた構成とした。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
クリーンルーム内において半導体製造装置に隣接して設けられ、搬送されてきたFOUPを受け取り当該FOUP内に格納されているウェーハを前記半導体製造装置内と当該FOUP内との間で出し入れするロードポートであって、
前記FOUP内の気体雰囲気を窒素又は乾燥空気に置換可能なパージポートを有するパージステージと、
当該パージステージに並べて設けられ、且つ前記半導体製造装置内に通じる開口部及び当該開口部を開閉可能なドア部を有するオープナステージと、
前記FOUPを前記パージステージと前記オープナステージとの間で移動させる移動機構とを具備してなることを特徴とするロードポート。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031FA03
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031GA30
, 5F031GA57
, 5F031JA08
, 5F031JA22
, 5F031KA20
, 5F031LA15
, 5F031MA15
, 5F031NA02
, 5F031NA04
, 5F031NA10
, 5F031NA15
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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