特許
J-GLOBAL ID：200903032763679238
容器内ガスパージシステム及びガスパージ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 元廣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-180545
公開番号（公開出願番号）：特開2006-005193
出願日： 2004年06月18日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：
【課題】 容器開閉装置の載置台上に載置された容器に対し、簡単に、少ない不活性ガス量で、短時間で、効率的に容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気で置換する。【解決手段】 半導体ウエハ等の収容容器1の開閉装置10の載置台上に載置された当該容器1内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージシステム20が、不活性ガス供給路21、容器1内の酸化性ガス排出路22、これらを接続するバイパス路23を備え、供給路21の一端には、容器1に設けられた給気用パージポート3に接合する給気ノズル24が設けられ、供給路21とバイパス路23との接続部よりも上流側には、第1のバルブ26が設けられ、排出路22の一端には、容器1に設けられた給排気用パージポート4に接合する給排気ノズル25が設けられ、排出路22とバイパス路23との接続部よりも下流側には、第2のバルブ27が設けられ、バイパス路23には、第3のバルブ28が設けられている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
半導体ウエハ等の被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器の開閉装置の容器
載置台上に載置された当該容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するた
めの容器内ガスパージシステムであって、
不活性ガスの供給路と、
容器内の酸化性ガスの排出路と、
前記供給路と前記排出路とをそれぞれの途中で接続するバイパス路と
を備え、
前記供給路の容器側の一端には、容器に設けられた給気用パージポートに接合する給気
ノズルが設けられ、
前記供給路と前記バイパス路との接続部よりも上流側には、第1のバルブが設けられ、
前記排出路の容器側の一端には、容器に設けられた給排気用パージポートに接合する給
排気ノズルが設けられ、
前記排出路と前記バイパス路との接続部よりも下流側には、第2のバルブが設けられ、
前記バイパス路には、第3のバルブが設けられている
ことを特徴とする容器内ガスパージシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 T
, B65D85/38 R
3E096AA06
, 3E096BA16
, 3E096BB03
, 3E096CA02
, 3E096CB03
, 3E096DA30
, 3E096FA08
, 3E096GA20
, 5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA07
, 5F031FA15
, 5F031NA07
, 5F031NA15
, 5F031PA23
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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