特許
J-GLOBAL ID：201003040628531011

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
伊藤 孝之

伊藤 孝之 について

, 
高橋 秀知

高橋 秀知 について

, 
土村 智孝

土村 智孝 について

, 
片岡 祥平

片岡 祥平 について

, 
稲崎 毅

稲崎 毅 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-013681
公開番号（公開出願番号）：特開2010-256856
出願日： 2010年01月25日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】超微細領域での、特に、電子線、X線又はEUV光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス及びアウトガス低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】繰り返し単位(A)〜(C)を含有する樹脂(P)及び沸点150°C以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法。(A)活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位(B)酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位(C)炭素-炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位【選択図】なし
請求項（抜粋）：
繰り返し単位(A)〜(C)を含有する樹脂(P)及び沸点150°C以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (A)活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位 (B)酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位 (C)炭素-炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/26
FI (6件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F212/14 ,  C08F220/26
Fターム (68件)：
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ44Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN41P ,  2H125AN42P ,  2H125AN67P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD08P ,  2H125CD12P ,  2H125CD35 ,  2H125CD37 ,  2H125CD40 ,  4J100AB00R ,  4J100AB01R ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AB07S ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AQ07R ,  4J100AR09Q ,  4J100BA02R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA56S ,  4J100BB10S ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC43R ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM