磁性体膜めっき装置及びめっき方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：渡邉勇 , 小杉良二 , 廣澤哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-180254
公開番号（公開出願番号）：特開2010-018841
出願日： 2008年07月10日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：

【課題】気泡の抜けが比較的よく、広い設置面積を必要としないディップ方式を採用し、しかもアノードとして強磁性体を使用したとしても、磁気異方性の均一性に影響を与えることを極力防止しつつ、基板表面に磁性体膜を形成することができるようにする。【解決手段】内部にめっき液Qを保持するめっき槽40と、めっき槽40の内部のめっき液Qに浸漬される位置に鉛直に配置されるアノード220と、基板Wを保持してアノード220と対向する位置に位置させる基板ホルダ26と、めっき槽Qの外方に配置され、基板ホルダ26で保持してアノード220と対峙した位置に位置させた基板Wの周囲に磁界を発生させる磁界発生装置114を有する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

内部にめっき液を保持するめっき槽と、前記めっき槽の内部のめっき液に浸漬される位置に鉛直に配置されるアノードと、基板を保持して前記アノードと対向する位置に位置させる基板ホルダと、前記めっき槽の外方に配置され、前記基板ホルダで保持して前記アノードと対峙した位置に位置させた基板の周囲に磁界を発生させる磁界発生装置を有することを特徴とする磁性体膜めっき装置。

IPC (6件)：

C25D 5/00 , C25D 21/00 , C25D 17/10 , C25D 21/10 , C25D 21/04 , C25D 17/06

FI (7件)：

C25D5/00 101 , C25D21/00 J , C25D17/10 C , C25D21/10 301 , C25D17/10 A , C25D21/04 , C25D17/06 C

Fターム (11件)：

4K024AB06 , 4K024BB14 , 4K024CA16 , 4K024CB02 , 4K024CB03 , 4K024CB06 , 4K024CB08 , 4K024CB12 , 4K024CB26 , 4K024DA04 , 4K024GA16

引用特許：

出願人引用 (8件)

磁性膜めつき装置及び該装置の使用方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-063050 出願人：住友金属工業株式会社
特開昭61-190091号公報
特許第3979847号明細書

全件表示

審査官引用 (5件)

電着めっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125819 出願人：ソニー株式会社
電着めっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-208419 出願人：ソニー株式会社
電気めっき法
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-129093 出願人：ヘッドウェイテクノロジーズインコーポレイテッド

全件表示

前のページに戻る