特許

J-GLOBAL ID：201003043262281598

シリコン精製方法、シリコン精製装置および再生砥粒

発明者： 北條 義之 ,  梶本 公彦 ,  藤田 健治 ,  松野 友亮
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-213008
公開番号（公開出願番号）：特開2010-047443
出願日： 2008年08月21日
公開日（公表日）： 2010年03月04日
要約：

【課題】シリコンの機械加工を行った際に発生する廃液から従来よりも簡便な手法にて不純物の除去が可能となるシリコン精製方法、および本精製方法に好ましく使用できるシリコン精製装置を提供する。【解決手段】本発明のシリコン精製方法は、シリコンの機械加工を行った際に発生する廃液から酸化シリコンを有するシリコン粉を含む粉末を分離する粉末分離工程と、減圧または不活性ガス雰囲気下の加熱容器中において前記粉末をシリコンの融点以上2000°C以下の温度に加熱し、シリコンが溶融した溶湯とする溶融工程と、前記溶湯に含まれる前記加熱容器の内壁または底に付着する粘度の高い酸化シリコンを前記加熱容器に残し、粘度の低いシリコン融液を冷却容器に出湯する出湯工程と、を備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

シリコンの機械加工を行った際に発生する廃液から酸化シリコンを有するシリコン粉を含む粉末を分離する粉末分離工程と、 減圧または不活性ガス雰囲気下の加熱容器中において前記粉末をシリコンの融点以上2000°C以下の温度に加熱し、シリコンが溶融した溶湯とする溶融工程と、 前記溶湯に含まれる前記加熱容器の内壁または底に付着する粘度の高い酸化シリコンを前記加熱容器に残し、粘度の低いシリコン融液を冷却容器に出湯する出湯工程と、 を備えるシリコン精製方法。

IPC (2件)：

C01B 33/037 ,  B24B 55/12

FI (2件)：

C01B33/037 ,  B24B55/12

Fターム (12件)：

3C047GG13 ,  4G072AA01 ,  4G072GG03 ,  4G072GG04 ,  4G072HH01 ,  4G072MM03 ,  4G072MM08 ,  4G072MM23 ,  4G072MM24 ,  4G072MM25 ,  4G072MM38 ,  4G072UU01

引用特許：

出願人引用 (2件)

• シリコンの回収方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-096957   出願人：株式会社日平トヤマ
• 研磨材を使った研磨・切断加工廃液の磁気分離システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-096328   出願人：仁木工芸株式会社, 株式会社ティ・ケー・エックス

審査官引用 (4件)

• シリコンの回収方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-096957   出願人：株式会社日平トヤマ
• 炭化珪素とシリコンとの分離方法およびそれに用いる装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-132711   出願人：シャープ株式会社
• シリコン再生装置、シリコン再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-299513   出願人：シャープ株式会社
• スラリ再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-131654   出願人：シャープ株式会社