特許
J-GLOBAL ID：201003043443426768

マスク用基板検査装置

発明者：
神崎 豊樹

神崎 豊樹 について

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金馬 祟

金馬 祟 について

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中嶋 嘉之

中嶋 嘉之 について

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有本 公彦

有本 公彦 について


出願人/特許権者：
株式会社堀場製作所

株式会社堀場製作所 について


代理人 (3件)： 西村 竜平 ,  佐藤 明子 ,  齊藤 真大
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-194211
公開番号（公開出願番号）：特開2010-032738
出願日： 2008年07月28日
公開日（公表日）： 2010年02月12日
要約：
【課題】半導体ウエハに回路パターンを露光する際に用いられるレチクル等のマスク用基板を表裏反転できるようにして、単一の検査光学系機構で測定できるようにしつつも、マスク用基板を表裏反転させるときの回転機構及びその回転駆動系構造を簡単な構成で実現できるマスク用基板検査装置100を提供する。【解決手段】検査光学系機構101に対して相対移動可能なステージ3に姿勢調整可能に支持基体4を取り付け、この支持基体4にレチクルWを保持する基板保持体5を反転可能に支持させる。そして、基板保持体5を、前記マスク用基板を挟圧把持する把持状態及び基板を抜き差しすることができる非把持状態のいずれかの状態をとることが可能なものとするとともに、前記基板保持体5を前記2状態のいずれかに駆動するための把持駆動機構11を前記支持基体4側に設けるようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光工程で用いられるマスク用基板に検査光を照射し、その反射光又は透過光に基づいて、当該マスク用基板上に存在する異物又は欠陥を検査するものであって、 前記検査光を射出する光源及び前記反射光又は透過光を受光する光センサからなる検査光学系機構と、 支持基体と、 前記マスク用基板を挟圧把持した状態である把持状態及び基板を固定することなく搭載した状態である非把持状態のいずれかの状態をとることが可能であるとともに、前記支持基体に回転可能に接続された基板保持体と、 前記基板保持体を、表面に検査光が照射される表面検査角度位置及びこの表面検査角度位置から反転させて裏面に前記検査光が照射される裏面検査角度位置に保持する検査角度位置保持機構と、 前記支持基体側に搭載されて前記基板保持体を前記2状態のいずれかに駆動するための把持駆動機構とを具備したものであることを特徴とするマスク用基板検査装置。
IPC (1件)：
G03F 1/08
FI (1件)：
G03F1/08 S
Fターム (2件)：
2H095BD04 ,  2H095BD05
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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