特許
J-GLOBAL ID:201003045792815413

酸化ニッケル微粉末及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 山本 正緒 ,  辻川 典範
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-261201
公開番号(公開出願番号):特開2010-089988
出願日: 2008年10月08日
公開日(公表日): 2010年04月22日
要約:
【課題】 電子部品材料として好適な、硫黄品位と塩素品位が低く且つ微細な酸化ニッケル微粉末、及びその工業的に安定な製造方法を提供する。【解決手段】 塩化ニッケル水溶液をアルカリで中和し、得られた水酸化ニッケルを水酸化ナトリウムを含む水溶液中で加温処理した後、700°Cを越え、950°C未満の温度で熱処理して酸化ニッケルとし、得られた酸化ニッケルを好ましくは解砕メディアを使用せずに解砕する。得られる酸化ニッケル微粉末は、塩素品位が100質量ppm以下、硫黄品位30質量ppm以下であり、比表面積が6m2/g以上である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
塩化ニッケル水溶液とアルカリを混合して、pH8.3〜pH9.0で中和して水酸化ニッケルを得る工程Aと、得られた水酸化ニッケルを0.2〜6mol/Lのアルカリを含む水溶液中で65°C以上に加温する工程Bと、水酸化ニッケルを非還元性雰囲気中において700°Cを越え、950°C未満の温度で熱処理して酸化ニッケルとする工程Cと、得られた酸化ニッケルを解砕する工程Dとを含むことを特徴とする酸化ニッケル微粉末の製造方法。
IPC (1件):
C01G 53/04
FI (1件):
C01G53/04
Fターム (7件):
4G048AA02 ,  4G048AA03 ,  4G048AA06 ,  4G048AA07 ,  4G048AB02 ,  4G048AD04 ,  4G048AE06
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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