特許
J-GLOBAL ID:201003046510159922
変位センサシステム及び変位センサ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人暁合同特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-088074
公開番号(公開出願番号):特開2010-237176
出願日: 2009年03月31日
公開日(公表日): 2010年10月21日
要約:
【課題】反射率が不均一な対象物でも表面形状等を測定することが可能な変位センサシステム及び変位センサを提供する。【解決手段】変位センサシステム1は、二次元撮像素子15の撮像面15A上の複数の領域Eを指定する領域指定部33と、指定された領域Eごとに対応して個別の投受光感度を設定可能な感度設定部20と、各領域内の走査線Lの受光信号を、当該領域に対応する投受光感度下で受光処理部17に取り出させ、その取り出された受光信号に応じた検出処理を実行する受光制御部20と、を備える.【選択図】図6
請求項(抜粋):
対象物に線状の光を照射する投光部と、
前記投光部から照射され前記対象物で反射した線状の反射光を受光可能な撮像面を有する二次元撮像素子と、
前記撮像面上の各画素での受光量に応じた受光信号を、前記線状の反射光の受光像に交差する走査線ごとに取り出す受光処理部と、
前記撮像面上の複数の領域を走査線単位で指定する領域指定部と、
前記領域指定部で指定された領域ごとに対応して個別の投受光感度を設定可能な感度設定部と、
前記各領域内の走査線の受光信号を、当該領域に対応する投受光感度下で前記受光処理部に取り出させ、その取り出された受光信号に応じた検出処理を実行する受光制御部と、を備える変位センサシステム。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (26件):
2F065AA04
, 2F065AA06
, 2F065AA17
, 2F065AA52
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065DD04
, 2F065FF01
, 2F065FF02
, 2F065FF09
, 2F065FF41
, 2F065GG04
, 2F065HH05
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL28
, 2F065MM22
, 2F065NN08
, 2F065NN13
, 2F065NN17
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065QQ29
, 2F065SS03
, 2F065SS12
, 2F065SS13
引用特許:
出願人引用 (4件)
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断面形状計測装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-102519
出願人:日立建機株式会社
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光学式計測装置および光学式計測装置の制御方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-220076
出願人:オムロン株式会社
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表面形状検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-126727
出願人:サンクス株式会社
-
断面形状測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-307943
出願人:株式会社豊田中央研究所
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審査官引用 (4件)