特許
J-GLOBAL ID：201003046640483420

テーパ穴形成装置、およびテーパ穴形成装置で用いられる振幅変調マスクまたは位相変調マスク

発明者：
谷 口 幸 夫

谷 口 幸 夫 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (5件)： 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  勝沼 宏仁 ,  磯貝 克臣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-164876
公開番号（公開出願番号）：特開2010-188418
出願日： 2009年07月13日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：
【課題】短い加工時間で精度良くインクジェットヘッドのノズル用テーパ穴を形成することができるテーパ穴形成装置を提供する。【解決手段】テーパ穴形成装置10は、光源11と、光を振幅変調する振幅変調マスク14と、振幅変調された光を結像して被加工物18にテーパ穴を形成する結像光学系17とを備える。振幅変調マスク14は、テーパ穴の貫通部に照射される光を変調する振幅変調マスクテーパ穴形成中央部と、テーパ穴のテーパ部に照射される光を変調する振幅変調マスクテーパ穴形成傾斜部と、振幅変調マスクテーパ穴形成傾斜部の周縁に位置する振幅変調マスクテーパ穴形成周縁部とからなる。また、振幅変調マスクテーパ穴形成中央部、振幅変調マスクテーパ穴形成傾斜部および振幅変調マスクテーパ穴形成周縁部はそれぞれ、複数の振幅変調単位領域からなる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光源から出射された光を被加工物に照射することにより、被加工物に貫通部若しくは底部分と、テーパ部とを有する少なくとも1つの先細状テーパ穴を形成するテーパ穴形成装置において、 光を出射する光源と、 前記光源の出射側に設けられ、光源からの光を変調して出射する変調マスクと、 前記変調マスクの出射側に設けられ、変調マスクにより変調された光を結像して被加工物に照射し、被加工物にテーパ穴を形成する結像光学系と、を備え、 前記変調マスクは、振幅変調マスクまたは位相変調マスクからなり、 被加工物に照射される光の光強度は、被加工物においてテーパ穴の貫通部若しくは底部分が形成される領域に照射される光の中央部と、被加工物においてテーパ穴のテーパ部が形成される領域に照射される光の傾斜部と、被加工物においてテーパ穴が形成されない領域に照射される光の周縁部とで異なり、 前記光の中央部の光強度は、前記光の傾斜部の光強度よりも大きく、 前記光の傾斜部の光強度は、前記光の周縁部の光強度よりも大きく、 前記光の傾斜部における光強度の分布は、光の傾斜部のうち前記光の中央部に隣接する領域から前記光の周縁部に隣接する領域に向かって光強度が減少するよう分布していることを特徴とするテーパ穴形成装置。
IPC (5件)：
B23K 26/38 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/073 ,  G02B 5/00 ,  B41J 2/135
FI (5件)：
B23K26/38 330 ,  B23K26/06 J ,  B23K26/073 ,  G02B5/00 A ,  B41J3/04 103N
Fターム (12件)：
2C057AF93 ,  2C057AG02 ,  2C057AP12 ,  2C057AP23 ,  2H042AA06 ,  2H042AA08 ,  2H042AA19 ,  2H042AA21 ,  4E068AF00 ,  4E068CB08 ,  4E068CD05 ,  4E068CD10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
  • レーザ加工装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-310378   出願人：ブラザー工業株式会社
  • レーザ加工装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-154765   出願人：松下電器産業株式会社

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