低次元構造体のカプセル化、転移方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-514587
公開番号（公開出願番号）：特表2010-506735
出願日： 2007年10月11日
公開日（公表日）： 2010年03月04日
要約：

【課題】グループ内の低次元構造体の数、グループのアスペクト比を、より正確にコントロールすることができる。【解決手段】低次元構造体(1)の第1のグループ(3a)と低次元構造体(1)の第2のグループ(3b)とを第1の基板に形成する工程を含む低次元構造体のカプセル化方法。低次元構造体(1)の第1のグループ(3a)と低次元構造体(1)の第2のグループ(3b)とはマトリックス(5)に別々にカプセル化される。カプセル化後、低次元構造体(1)の第1のグループ(3a)と低次元構造体(1)の第2のグループ(3b)とを分離してもよい。各グループは、その後、例えば第2の基板(7)に移動するなどの処理が行われる。グループ内の低次元構造体の数、グループのアスペクト比は、低次元構造体が形成される際に決定され、パターニング法を使って決定されていた従来の方法に比べて、より正確にコントロールすることができる。【選択図】図7(a)〜7(e)

請求項（抜粋）：

低次元構造体の第1のグループと低次元構造体の第2のグループとを第1の基板に形成する工程、および、上記低次元構造体の第1のグループと上記低次元構造体の第2のグループとを別々にマトリックスの中にカプセル化する工程、を含むことを特徴とする低次元構造体のカプセル化方法。

IPC (13件)：

B82B 3/00 , B82B 1/00 , H01L 31/10 , H01L 31/04 , H01L 33/02 , H01S 5/40 , H01L 29/06 , H01L 21/824 , H01L 27/115 , H01L 29/788 , H01L 29/792 , H01L 29/786 , H01L 29/78

FI (13件)：

B82B3/00 , B82B1/00 , H01L31/10 A , H01L31/04 Z , H01L33/00 100 , H01S5/40 , H01L29/06 601N , H01L29/06 601L , H01L27/10 434 , H01L29/78 371 , H01L29/78 618B , H01L29/78 618C , H01L29/78 301X

Fターム (81件)：

5F041CA33 , 5F041CB01 , 5F041CB23 , 5F041DB07 , 5F049MB03 , 5F049PA14 , 5F049PA20 , 5F049QA01 , 5F049TA12 , 5F051AA03 , 5F051CB12 , 5F051DA04 , 5F051DA20 , 5F051EA20 , 5F051JA13 , 5F083EP02 , 5F083EP27 , 5F083ER21 , 5F083GA10 , 5F083GA27 , 5F083JA36 , 5F083JA37 , 5F083JA38 , 5F083JA39 , 5F083JA60 , 5F083KA01 , 5F083KA05 , 5F083LA01 , 5F083LA12 , 5F083LA16 , 5F083PR05 , 5F083PR12 , 5F083PR21 , 5F083PR25 , 5F101BA01 , 5F101BA12 , 5F101BB02 , 5F101BD02 , 5F101BD30 , 5F101BD32 , 5F101BD33 , 5F101BD39 , 5F101BE07 , 5F101BH03 , 5F101BH12 , 5F101BH13 , 5F110AA16 , 5F110BB08 , 5F110BB11 , 5F110CC10 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE09 , 5F110EE14 , 5F110EE37 , 5F110EE45 , 5F110FF02 , 5F110FF23 , 5F110FF29 , 5F110GG02 , 5F110GG22 , 5F110GG30 , 5F110GG42 , 5F110PP34 , 5F110QQ16 , 5F140AA40 , 5F140AB05 , 5F140AC32 , 5F140BA01 , 5F140BB01 , 5F140BC12 , 5F140BE07 , 5F140BE10 , 5F140BF04 , 5F140BF11 , 5F140BF15 , 5F140BF17 , 5F173AB00 , 5F173AD02 , 5F173AL12

引用特許：

審査官引用 (7件)

特許第6383923号
特許第6996147号
ナノ構造体及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-290536 出願人：キヤノン株式会社

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