ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-201285
公開番号（公開出願番号）：特開2010-039147
出願日： 2008年08月04日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：

【課題】ラインウィズスラフネスが小さいパターンを得られるとともに、露光ラチチュードが広いパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する繰り返し単位を少なくとも2種含有し、該2種の繰り返し単位は酸分解性基の反応活性化エネルギーが互いに異なり、該反応活性化エネルギーの差が40.0kJ/mol以下である樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する繰り返し単位を少なくとも2種含有し、該2種の繰り返し単位は酸分解性基の反応活性化エネルギーが互いに異なり、該反応活性化エネルギーの差が40.0kJ/mol以下である樹脂(A)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , C08F 220/12 , C08F 220/28 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , C08F220/12 , C08F220/28 , H01L21/30 502R

Fターム (40件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AU29R , 4J100BA02R , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA11R , 4J100BA15R , 4J100BA40R , 4J100BA59R , 4J100BC03P , 4J100BC03Q , 4J100BC04Q , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC52R , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (5件)

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-369340 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-024050 出願人：富士写真フイルム株式会社
特許第4090773号公報

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