特許

J-GLOBAL ID：201003055396340505

摺動部材及びその製造方法

発明者： 不破 良雄 ,  梅原 徳次 ,  野老山 貴行 ,  神谷 真人 ,  羽田野 拓也 ,  上坂 裕之
出願人/特許権者： トヨタ自動車株式会社 ,  国立大学法人名古屋大学
代理人 (2件)： 平木 祐輔 ,  関谷 三男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-062384
公開番号（公開出願番号）：特開2010-215950
出願日： 2009年03月16日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：

【課題】該非晶質炭素被膜の初期摩擦係数の低減を含む初期馴染み性を向上させることができる摺動部材およびその製造方法を提供する。【解決手段】基材の表面に、水素を含有した非晶質炭素被膜を成膜する工程と、前記非晶質炭素被膜の表面に紫外線を照射する工程と、を含む。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基材の表面に、水素を含有した非晶質炭素被膜を成膜する工程と、 前記非晶質炭素被膜の表面に紫外線を照射する工程と、を含むことを特徴とする摺動部材の製造方法。

IPC (8件)：

C23C 14/58 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/48 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/503 ,  C23C 16/56 ,  C10M 103/02 ,  C10M 177/00

FI (9件)：

C23C14/58 C ,  C23C14/06 F ,  C23C14/48 D ,  C23C16/26 ,  C23C16/503 ,  C23C14/06 N ,  C23C16/56 ,  C10M103/02 Z ,  C10M177/00

Fターム (29件)：

4H104AA04A ,  4H104EB03 ,  4H104JA01 ,  4H104LA03 ,  4H104PA01 ,  4H104PA41 ,  4H104QA12 ,  4K029AA02 ,  4K029AA11 ,  4K029BA34 ,  4K029BB02 ,  4K029BB10 ,  4K029BC02 ,  4K029BD04 ,  4K029CA08 ,  4K029DC03 ,  4K029EA05 ,  4K029FA04 ,  4K029FA05 ,  4K029GA01 ,  4K030AA09 ,  4K030AA10 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030BB05 ,  4K030CA02 ,  4K030CA07 ,  4K030DA08 ,  4K030LA23

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ダイヤモンド状炭素膜の形成方法及び表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-203926   出願人：松下電器産業株式会社
• 摺動部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-264149   出願人：ブラザー工業株式会社
• 非晶質炭素膜、その形成方法、および非晶質炭素膜を備えた高耐摩耗摺動部材
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-523911   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 水素脱離方法および水素脱離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-230782   出願人：住友電気工業株式会社

審査官引用 (4件)

• ダイヤモンド状炭素膜の形成方法及び表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-203926   出願人：松下電器産業株式会社
• 摺動部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-264149   出願人：ブラザー工業株式会社
• 非晶質炭素膜、その形成方法、および非晶質炭素膜を備えた高耐摩耗摺動部材
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-523911   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 水素脱離方法および水素脱離装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-230782   出願人：住友電気工業株式会社

引用文献：

出願人引用 (1件)

• The irradiation studies on diamond-like carbon films

審査官引用 (1件)

• The irradiation studies on diamond-like carbon films