特許
J-GLOBAL ID：201003056209538271

石英ガラスの製造のためのSiO2スラリーならびに該スラリーの使用

発明者：
ヴァルトラウト ヴェルデッカー

ヴァルトラウト ヴェルデッカー について

, 
ノルベルト トレーガー

ノルベルト トレーガー について

, 
ユルゲン ヴェーバー

ユルゲン ヴェーバー について


出願人/特許権者：
ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト

ヘレーウス クヴァルツグラース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト について


代理人 (9件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  高橋 佳大 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-529650
公開番号（公開出願番号）：特表2010-504901
出願日： 2007年09月12日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：
石英ガラスの製造のための公知のSiO2スラリーは、分散液および最大500μmまでの粒度を有する非晶質SiO2粒子、その際、1μmから60μmまでの範囲内の粒度を有するSiO2粒子が最も大きい体積割合となる、ならびにそれ以外に0.2質量%から15質量%までの範囲内で(全体の固体含有率に対して)100nm未満の粒度を有するSiO2ナノ粒子を含有する。これから出発して、スラリーの流動挙動が、スラリー材料の排出または注出による処理に鑑みて最適化されているスラリーを準備するために、本発明により、SiO2粒子が、1μm〜3μmの範囲内の大きさ分布の第一の最大値と、5μm〜50μmの範囲内の第二の最大値とを有するマルチモーダルな粒度分布を有し、かつ固体含有率(SiO2粒子およびSiO2ナノ粒子を合わせた質量割合)が83%から90%までの範囲内にあることが提案される。
請求項（抜粋）：
分散液および最大500μmまでの粒度を有する非晶質SiO2粒子を含有する、石英ガラスの製造のためのSiO2スラリーであって、その際、1μmから60μmまでの範囲内の粒度を有するSiO2粒子が最も大きい体積割合となり、かつ前記SiO2スラリーは、100nm未満の粒度を有するSiO2ナノ粒子を(全体の固体含有率に対して)0.2質量%から15質量%までの範囲内で含有する、石英ガラスの製造のためのSiO2スラリーにおいて、SiO2粒子が、1〜3μmの範囲内の大きさ分布の第一の最大値と、5〜50μmの範囲内の第二の最大値とを有するマルチモーダルな粒度分布を有し、かつ固体含有率(SiO2粒子およびSiO2ナノ粒子を合わせた質量割合)が83%から90%までの範囲内にあることを特徴とする、石英ガラスの製造のためのSiO2スラリー。
IPC (2件)：
C01B 33/145 ,  C03B 20/00
FI (2件)：
C01B33/145 ,  C03B20/00 C
Fターム (23件)：
4G014AH00 ,  4G072AA25 ,  4G072AA34 ,  4G072AA38 ,  4G072BB02 ,  4G072BB05 ,  4G072DD03 ,  4G072DD04 ,  4G072DD06 ,  4G072EE05 ,  4G072EE06 ,  4G072EE07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH17 ,  4G072HH18 ,  4G072HH30 ,  4G072MM08 ,  4G072MM36 ,  4G072MM37 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072UU21
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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