特許
J-GLOBAL ID：201003056476475343

基板乾燥装置および基板乾燥方法

発明者：
宮 勝彦

宮 勝彦 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 振角 正一 ,  梁瀬 右司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-041797
公開番号（公開出願番号）：特開2010-199261
出願日： 2009年02月25日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：
【課題】基板表面に付着した液体を大気圧雰囲気で除去して基板を良好に乾燥させることができる基板乾燥装置および基板乾燥方法を提供する。【解決手段】凍結膜12を構成するDIWの凝固点よりも低温で、かつ凍結膜12の温度よりも低い露点を有する凍結乾燥用窒素ガスが基板表面Wfに向けて継続して供給される。このため、凍結乾燥用窒素ガス中の水蒸気の分圧は凍結膜12の蒸気圧(昇華圧)よりも低く昇華乾燥が進行する。また、昇華により発生した水蒸気成分は凍結乾燥用窒素ガスの気流に乗って基板表面Wfから取り除かれるため、水蒸気成分が液相や固相に戻り基板表面Wfに再付着するのを確実に防止することができる。このように大気圧雰囲気で基板表面Wfに付着したリンス液を良好に除去して基板Wを乾燥させることができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板表面上の液体を凍結させる凍結手段と、 前記基板表面に向けて前記液体の凝固点よりも低い温度でかつ前記凍結体の温度よりも低い露点を有する乾燥用気体を継続して供給して前記凍結体を昇華乾燥させる昇華乾燥手段と を備えたことを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  F26B 5/04
FI (2件)：
H01L21/304 651Z ,  F26B5/04
Fターム (43件)：
3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC21 ,  3L113AC28 ,  3L113AC45 ,  3L113AC54 ,  3L113AC63 ,  3L113AC68 ,  3L113AC76 ,  3L113BA34 ,  3L113DA24 ,  5F157AA03 ,  5F157AA09 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC24 ,  5F157BB22 ,  5F157BB45 ,  5F157BH18 ,  5F157BH19 ,  5F157BH21 ,  5F157CB03 ,  5F157CB11 ,  5F157CB13 ,  5F157CB28 ,  5F157CE04 ,  5F157CE07 ,  5F157CE23 ,  5F157CE25 ,  5F157CE43 ,  5F157CE55 ,  5F157CE66 ,  5F157CF22 ,  5F157CF34 ,  5F157CF38 ,  5F157CF42 ,  5F157CF44 ,  5F157CF60 ,  5F157CF62 ,  5F157DA21
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM