光重合性樹脂積層体及びそれを用いたパターンの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：鳴井義夫 , 武井英夫 , 松井佳章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-167222
公開番号（公開出願番号）：特開2010-009913
出願日： 2008年06月26日
公開日（公表日）： 2010年01月14日
要約：

【課題】表面が撥インク性に優れた隔壁付き基板を簡便な手法で形成することを目的とする。【解決手段】支持フィルム上に、含フッ素化合物層、光重合性樹脂層、がこの順で積層された光重合性樹脂積層体であって、該含フッ素化合物層は、含フッ素化合物を30〜100質量%含有する組成物からなり、該含フッ素化合物層の積層量は支持フィルム1m2あたり1〜40mm3であり、該光重合性樹脂層は、アルカリ可溶性高分子、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、光重合性開始剤、及び熱ラジカル発生剤を含有する光重合性樹脂組成物からなることを特徴とする光重合性樹脂積層体。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

支持フィルム上に、含フッ素化合物層、光重合性樹脂層、がこの順で積層された光重合性樹脂積層体であって、該含フッ素化合物層は、含フッ素化合物を30〜100質量%含有する組成物からなり、該含フッ素化合物層の積層量は支持フィルム1m2あたり1〜40mm3であり、該光重合性樹脂層は、アルカリ可溶性高分子、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、光重合性開始剤、及び熱ラジカル発生剤を含有する光重合性樹脂組成物からなることを特徴とする光重合性樹脂積層体。

IPC (13件)：

H05B 33/02 , H05B 33/22 , H01L 51/50 , H05B 33/12 , G02F 1/167 , G02F 1/17 , G09F 9/30 , H01L 27/32 , G09F 9/37 , G09F 9/00 , G03F 7/004 , G03F 7/11 , B32B 27/30

FI (13件)：

H05B33/02 , H05B33/22 Z , H05B33/14 A , H05B33/12 B , G02F1/167 , G02F1/17 , G09F9/30 310 , G09F9/30 365Z , G09F9/37 Z , G09F9/00 342Z , G03F7/004 512 , G03F7/11 501 , B32B27/30 D

Fターム (71件)：

2H025AA00 , 2H025AB11 , 2H025AB14 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC43 , 2H025CA02 , 2H025CA30 , 2H025CB13 , 2H025CB14 , 2H025CB43 , 2H025CC01 , 2H025CC20 , 2H025DA03 , 2H025EA08 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC33 , 3K107CC45 , 3K107DD17 , 3K107DD19 , 3K107DD89 , 3K107DD94 , 3K107DD96 , 3K107DD97 , 3K107FF09 , 3K107FF14 , 3K107GG08 , 3K107GG11 , 4F100AK01A , 4F100AK01C , 4F100AK17B , 4F100AK25B , 4F100AK25C , 4F100AK42 , 4F100AL01B , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100CA30C , 4F100EH46 , 4F100EJ53 , 4F100EJ54 , 4F100EJ64B , 4F100GB41 , 4F100JB06B , 4F100JB08C , 4F100JB14B , 4F100JL02 , 4F100YY00B , 5C094AA43 , 5C094AA44 , 5C094BA27 , 5C094BA75 , 5C094DA13 , 5C094EB10 , 5C094FB01 , 5C094GB10 , 5C094JA20 , 5G435AA17 , 5G435BB05 , 5G435BB11 , 5G435HH20 , 5G435KK05

引用特許：

出願人引用 (9件)

アクティブマトリックス型有機EL表示体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-158671 出願人：セイコーエプソン株式会社
有機EL素子の製造方法及び製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-334606 出願人：セイコーエプソン株式会社
光学素子とその製造方法、液晶素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-240570 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

前のページに戻る