高速ガス切り替えプラズマ処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-537300
公開番号（公開出願番号）：特表2010-510669
出願日： 2007年11月12日
公開日（公表日）： 2010年04月02日
要約：

【解決手段】電極を有するプラズマ閉じ込め区域を備えたプラズマチャンバを提供する。第1のガスおよび第2のガスを供給するガス分配システムが、プラズマチャンバに接続されており、ガス分配システムは、1秒未満の期間内でプラズマ区域内の一方のガスを他方のガスで実質的に置き換えることができる。第1の周波数帯域で電極に電力を提供するための第1の周波数調整RF電源が、少なくとも1つの電極に電気的に接続されており、第1の周波数整RF電源は、反射RF電力を最小化することができる。第1の周波数帯域の外側の第2の周波数帯域で前記プラズマチャンバに電力を供給するための第2の周波数調整RF電源が備えられており、第2の周波数調整RF電源は、反射RF電力を最小化することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマウエハ処理ツールであって、体積を有するプラズマ閉じ込め区域と少なくとも1つの電極とを備えたプラズマチャンバと、第1のガスおよび第2のガスを供給するためのガス分配システムであって、1秒未満の期間内で、前記プラズマ区域内の前記第1のガスおよび前記第2のガスの内の一方を前記第1のガスおよび第2のガスの内の他方で実質的に置き換えることが可能であり、前記プラズマ区域内で前記第1のガスから形成される第1のプラズマが、第1のインピーダンス負荷を提供し、前記プラズマ区域内で前記第2のガスから形成される第2のプラズマが、前記第1のインピーダンス負荷と異なる第2のインピーダンス負荷を提供する、ガス分配システムと、第1の周波数帯域で前記少なくとも1つの電極に電力を供給するための第1の周波数調整RF電源であって、反射RF電力を受信して、前記反射RF電力を最小化するように出力RF周波数を調整することができる、第1の周波数調整RF電源と、前記第1の周波数帯域の外側の第2の周波数帯域で前記プラズマチャンバに電力を供給するための第2の周波数調整RF電源であって、反射RF電力を受信して、前記反射RF電力を最小化するように出力RF周波数を調整することができる、第2の周波数調整RF電源と、を備える、プラズマウエハ処理ツール。

IPC (4件)：

H01L 21/306 , H05H 1/46 , C23C 16/509 , C23C 16/455

FI (5件)：

H01L21/302 101G , H05H1/46 M , H01L21/302 101B , C23C16/509 , C23C16/455

Fターム (18件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030EA03 , 4K030FA03 , 4K030JA18 , 4K030KA02 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 5F004BB13 , 5F004BC03 , 5F004BC08 , 5F004CA01 , 5F004CA03 , 5F004DA00 , 5F004DA16 , 5F004DA23 , 5F004DA26 , 5F004DB03

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-068301 出願人：松下電器産業株式会社
エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-061888 出願人：住友精密工業株式会社
周波数整合器
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-216768 出願人：ケーイーエム株式会社

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