特許
J-GLOBAL ID:201003064741093949
ファセットミラー及び投影露光装置の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 憲司
, 澤田 達也
, 下地 健一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-549381
公開番号(公開出願番号):特表2010-519725
出願日: 2008年02月18日
公開日(公表日): 2010年06月03日
要約:
本発明は、ミラー、特に、ファセットミラーの製造方法と、本発明に係るミラーを備える投影露光装置の製造方法とに関する。
請求項(抜粋):
運搬素子上に配置されたミラーファセット(110)を有するファセットミラーを有する投影露光装置であって、前記ミラーファセット(110)は、2mm未満、特に、0.2mm〜1.2mmの範囲の厚みを有することを特徴とする、EUV投影露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G02B 5/08
FI (5件):
H01L21/30 531A
, H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, G02B5/08 A
, H01L21/30 517
Fターム (14件):
2H042DA01
, 2H042DA08
, 2H042DA12
, 2H042DB02
, 2H042DC02
, 2H042DC09
, 2H042DE04
, 5F046BA03
, 5F046CB03
, 5F046CB22
, 5F046DA01
, 5F046GA03
, 5F046GA14
, 5F046GB01
引用特許:
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