真空蒸着装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-276546
公開番号（公開出願番号）：特開2010-106289
出願日： 2008年10月28日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：

【課題】反射電子トラップの反射電子捕獲率を大幅に向上させる。【解決手段】真空チャンバ1内において、坩堝8内に収容された蒸発材料7に電子銃9からの電子ビームEBを照射することにより蒸発材料7を蒸発させ、蒸発粒子を基板4上に付着させる様に成す。真空チャンバ1内に設けられ、蒸発材料7で反射した電子ビームを捕獲するための反射電子トラップ21は、反射電子が入射する開口部を有する箱状の形状を成しており、反射電子を偏向させる磁界をその箱の内部に発生させるための磁極と、磁界により偏向された反射電子が入射する面に配置される電子吸収体とを成す。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内において、坩堝内に収容された蒸発材料に電子ビームを照射し、該照射により蒸発した粒子を被膜部材に付着させる様に成し、前記真空チャンバ内に、前記蒸発材料で反射した電子ビームを捕獲するための反射電子トラップを設けた真空蒸着装置において、前記反射電子トラップは、反射電子が入射する開口部を有する箱状の形状を成しており、反射電子を偏向させる磁界をその箱の内部に発生させるための磁極と、磁界により偏向された反射電子が入射する面に配置される電子吸収体とを有することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (1件)：

C23C 14/30

FI (1件)：

C23C14/30

Fターム (2件)：

4K029CA01 , 4K029DB21

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開昭63- 50461号公報
特開平 3- 79758号公報
特開平 6- 93431号公報

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審査官引用 (5件)

特開昭52-098631
特開昭62-080264
中性蒸気発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-344389 出願人：株式会社日立製作所

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