特許
J-GLOBAL ID：201003066167631654

塗布装置、塗布方法、及び光学補償フィルムの製造方法

発明者：
三田 俊哉

三田 俊哉 について

, 
浜本 伸夫

浜本 伸夫 について

, 
横山 広樹

横山 広樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-244233
公開番号（公開出願番号）：特開2010-075785
出願日： 2008年09月24日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】バーに接触して走行するポリマーフィルムの接触部直前に形成される液溜り部に塗布液を供給するスリットと、液溜り部の塗布液がオーバーフローする堰と、を少なくとも備えた塗布装置において、塗布ムラが発生するのを抑制する。【解決手段】堰26の先端がウエブ12の走行方向に対して0.1mm以上5mm以下の長さLの平坦部27を有するようにする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
バーに接触して走行するポリマーフィルムの接触部直前に形成される液溜り部に塗布液を供給するスリットと、前記液溜り部の塗布液がオーバーフローする堰と、を少なくとも備えた塗布装置において、 前記堰は、先端が前記ポリマーフィルムの走行方向に対して0.1mm以上5mm以下の長さの平坦部を有していることを特徴とする塗布装置。
IPC (6件)：
B05C 1/08 ,  G02B 5/30 ,  B05D 1/28 ,  B05D 7/04 ,  B05C 3/18 ,  G02F 1/133
FI (6件)：
B05C1/08 ,  G02B5/30 ,  B05D1/28 ,  B05D7/04 ,  B05C3/18 ,  G02F1/13363
Fターム (35件)：
2H149AA02 ,  2H149AB02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB04 ,  2H149DB15 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA34Y ,  2H149FA52Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FD44 ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FB05 ,  2H191FB22 ,  2H191FC13 ,  2H191FC41 ,  2H191LA13 ,  2H191PA86 ,  4D075AC22 ,  4D075AC27 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075BB26Z ,  4D075DA04 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EC07 ,  4F040AA12 ,  4F040AA22 ,  4F040AB20 ,  4F040AC01 ,  4F040BA12 ,  4F040BA23 ,  4F040CB22
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • 塗布方法及び塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-225441   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • バー塗布方法及び装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-272165   出願人：富士写真フイルム株式会社
  • 塗布方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-014174   出願人：富士写真フイルム株式会社
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM