特許
J-GLOBAL ID：201003069995970607

スタンパ及びこれを用いた光インプリントリソグラフィ方法

発明者：
保田 慶友

保田 慶友 について

, 
生井 準人

生井 準人 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 清路 ,  萩野 義昇 ,  谷口 直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-089611
公開番号（公開出願番号）：特開2010-245130
出願日： 2009年04月01日
公開日（公表日）： 2010年10月28日
要約：
【課題】スタンパから分離された後の被形状転写層表面に形成された凹凸パターンに残存された残渣を容易に除去することができるスタンパ及びこのスタンパを用いた光インプリントリソグラフィ方法を提供する。【解決手段】基板上に設けられた被形状転写層に転写するための凹凸パターン12を有する光インプリントリソグラフィ法に用いられるスタンパ10aであって、凹凸パターン12は、遮光性を有する凸部121sと透光性を有する凹部122tとを有する。本光インプリントリソグラフィ法は、ネガ型光硬化性を有する被形状転写層にスタンパ10aを圧接する工程と、スタンパ10aを被形状転写層に圧接した状態で被形状転写層を露光する工程と、スタンパ10aと露光後の被形状転写層とを分離する工程と、分離後の被形状転写層に形成された凹凸パターンを洗浄する工程と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた被形状転写層に転写するための凹凸パターンを有する光インプリントリソグラフィ法に用いられるスタンパであって、 前記凹凸パターンは、遮光性を有する凸部と透光性を有する凹部とを有することを特徴とするスタンパ。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02 ,  B29C 33/38
FI (3件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 B ,  B29C33/38
Fターム (18件)：
4F202AA44 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ11 ,  4F202AM33 ,  4F202CA01 ,  4F202CA11 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CK12 ,  4F209AA44 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ11 ,  4F209AM33 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PQ11 ,  4F209PW50 ,  5F046AA28
引用特許：
審査官引用 (5件)
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