特許
J-GLOBAL ID：200903095886670792
インプリント用モールド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-013700
公開番号（公開出願番号）：特開2007-194550
出願日： 2006年01月23日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】インプリント用モールドを高精度、かつ安価に製造することができるインプリント用モールドの製造方法及びインプリント用モールドを提供することを目的とする。【解決手段】透明基板11上に開口部22を有するレジストパターン21aを形成し、開口部及びレジストパターン上にニッケルシード層31を形成し、ニッケルシード層31をめっき電極にして電解ニッケルめっきを行い、開口部及びレジストパターン上に所定厚のニッケル層41を形成する。さらに、レジストパターン上のニッケル層を除去し、レジストパターン21aの上部を露出し、プラズマアッシングもしくは専用の剥離液で剥離処理することにより、レジストパターン21aを除去し、透明基板11の所定位置にNiからなるモールドパターン41aが形成されたインプリント用モールド100を得る。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
透明基板上に形成されたモールドパターンがニッケルで形成されていることを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B81C5/00
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示
前のページに戻る
