窓付きの薄い研磨パッド及び成形プロセス

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 山田行一 , 池田成人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-511259
公開番号（公開出願番号）：特表2010-528885
出願日： 2008年05月30日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：

研磨面をもつ研磨層と、研磨層とは反対の研磨層の側にある接着剤層と、研磨層を貫通して延びて研磨層に成形される固体の光透過窓とを有する研磨パッドが説明される。窓は、研磨面と同一平面の最上面、及び接着剤層の下面と同一平面の底面を有する。研磨パッドを作成する方法は、研磨層及び接着剤層を貫通してアパーチャーを形成し、研磨層の研磨面とは反対側で接着剤層にバッキング部片を固定し、アパーチャーに液体ポリマーを投与し、液体ポリマーを硬化して窓を形成することを含む。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

研磨面を有する研磨層と、上記研磨層とは反対の上記研磨層の側にある接着剤層と、上記研磨層を貫通して延び且つ研磨層に成形された固体の光透過窓であって、上記研磨面と同一平面の最上面及び上記接着剤層の下面と同一平面の底面を有している窓と、を備えた研磨パッド。

IPC (3件)：

B24B 37/00 , B24B 37/04 , H01L 21/304

FI (4件)：

B24B37/00 C , B24B37/04 K , H01L21/304 622F , H01L21/304 622S

Fターム (5件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CB03 , 3C058CB04 , 3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (5件)

ウェーハ研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-194090 出願人：株式会社東京精密
研磨布
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-381533 出願人：ロデール・ニッタ株式会社
研磨用パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-254971 出願人：株式会社イノアックコーポレーション, 株式会社ロジャースイノアック

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審査官引用 (5件)

ウェーハ研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-194090 出願人：株式会社東京精密
研磨布
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-381533 出願人：ロデール・ニッタ株式会社
研磨用パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-254971 出願人：株式会社イノアックコーポレーション, 株式会社ロジャースイノアック

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