特許
J-GLOBAL ID:201003074045792269

露光装置およびデバイス製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 内尾 裕一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-288268
公開番号(公開出願番号):特開2010-114397
出願日: 2008年11月10日
公開日(公表日): 2010年05月20日
要約:
【課題】 ステージの温度調節において、流体循環系の流量を低減すること、または、流体循環系を不用にすること。【解決手段】 基板(101)を保持するウエハステージ(4)または原版を保持するレチクルステージ(2)を有し、ウエハステージ(4)に保持された基板(101)を露光する露光装置であって、ウエハステージ(4)に設けられた気体室(103)と、気体室(103)の内部で気体の圧力を変化させてウエハステージ(4)の温度を調節する調節手段(107,108)と、を有することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原版または基板を保持するステージを有し、前記ステージに保持された前記基板を露光する露光装置であって、 前記ステージに設けられた気体室と、 前記気体室内で気体の圧力を変化させて前記ステージの温度を調節する調節手段と、を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  H01L 21/683
FI (4件):
H01L21/30 515G ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 516E ,  H01L21/68 N
Fターム (20件):
5F031CA02 ,  5F031CA07 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031HA23 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031JA45 ,  5F031JA47 ,  5F031LA08 ,  5F031MA27 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046CC10 ,  5F046DA26
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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