冷却機構

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-046349
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259778
出願日： 2003年02月24日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】結像性能の劣化となる光学部材の熱膨張による変形を低減することで所望の光学性能をもたらす冷却機構を提供する。【解決手段】真空雰囲気下に置かれた光学部材を冷却する冷却機構であって、ガスが供給される供給口と前記ガスを排気する排気口を有する流路が形成され、前記光学部材を支持する支持部と、前記流路に配置され、供給される前記ガスの圧力を低下させる圧力低下手段とを有することを特徴とする冷却機構を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空雰囲気下に置かれた光学部材を冷却する冷却機構であって、ガスが供給される供給口と前記ガスを排気する排気口を有する流路が形成され、前記光学部材を支持する支持部と、前記流路に配置され、供給される前記ガスの圧力を低下させる圧力低下手段とを有することを特徴とする冷却機構。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G21K1/06 , G21K5/02

FI (4件)：

H01L21/30 502H , G21K1/06 P , G21K5/02 X , H01L21/30 531A

Fターム (8件)：

5F046BA03 , 5F046CB02 , 5F046CC01 , 5F046DA26 , 5F046DB02 , 5F046GA11 , 5F046GA14 , 5F046GB01

引用特許：

審査官引用 (8件)

試料ステージおよびその温度制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-118777 出願人：株式会社日立製作所
ミラーユニットおよび該ミラーユニットを備えた露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-319725 出願人：キヤノン株式会社
二重効用吸収式冷温水機
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-071911 出願人：矢崎総業株式会社

全件表示

前のページに戻る