特許
J-GLOBAL ID:201003080136156543

基板の保管装置及び基板の処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-300652
公開番号(公開出願番号):特開2010-129634
出願日: 2008年11月26日
公開日(公表日): 2010年06月10日
要約:
【課題】基板の汚染を抑制しつつ、基板を長時間保管する。【解決手段】保管装置3は、複数のウェハWを上下方向に多段に収容し、内部を密閉可能な収容容器110を有している。収容容器110内には、複数のウェハWの上方を覆うように拡散板120が設けられている。拡散板120には、当該拡散板120を厚み方向に貫通する貫通孔121が複数形成され、拡散板120は、給気口130から供給された不活性ガスを水平面内で均一に拡散させることができる。流路Rにおける収容容器110の下面には、給気領域A1に不活性ガスを供給する給気口130が形成されている。排気領域A3における収容容器110の下面には、排気領域A3から収容容器110内の雰囲気を排気する排気口132が形成されている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
複数の基板を保管する保管装置であって、 複数の基板を上下方向に多段に収容し、内部を密閉可能な収容容器と、 前記収容容器内において、前記複数の基板の上方又は下方を覆うように設けられた拡散板と、を有し、 前記収容容器には、 前記拡散板を介して前記複数の基板側の領域に所定の気体を供給する給気領域と、 前記収容容器内に複数の基板が配置される基板領域と、 前記基板領域の下流側の排気領域と、 前記給気領域に所定の気体を供給するための給気口と、 前記排気領域から前記収容容器内の雰囲気を排気するための排気口と、が設けられ、 前記拡散板は、前記給気領域から流れる所定の気体を均一に拡散させる通気部を有することを特徴とする、基板の保管装置。
IPC (2件):
H01L 21/677 ,  H01L 21/02
FI (2件):
H01L21/68 A ,  H01L21/02 Z
Fターム (22件):
5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA11 ,  5F031EA14 ,  5F031EA19 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031PA02 ,  5F031PA23
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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