特許

J-GLOBAL ID：201003083255716734

液中プラズマ成膜方法、その方法により成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置

発明者： 林 秀高 ,  下 俊久 ,  熊谷 京子 ,  奥田 真也 ,  柴田 顕次 ,  野村 信福 ,  豊田 洋通
出願人/特許権者： 株式会社豊田自動織機 ,  国立大学法人愛媛大学
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-236888
公開番号（公開出願番号）：特開2010-070782
出願日： 2008年09月16日
公開日（公表日）： 2010年04月02日
要約：

【課題】液中プラズマを用い基材をマスキングして成膜を行うことで、従来と同様の形状はもちろん、従来とは異なる形状の被覆膜をも得られる液中プラズマ成膜方法、それにより成膜される被覆膜および液中プラズマ成膜装置を提供する。【解決手段】原料を含む液体Lに、基材Sと基材Sの被成膜面S0を覆う複数の貫通孔をもつマスク2とを配設する配設工程と、液体Lに気泡Bを発生させる気泡発生工程と、前記原料からなるプラズマを気泡Bに発生させるプラズマ発生工程と、を経て、プラズマを内包する気泡Bをマスク2を通じて被成膜面S0に接触させて、被成膜面S0に原料の分解成分を堆積させる。配設工程におけるマスク2の配設状態によっては、従来の気相プラズマで形成されるようなセグメント形態の膜とは異なる形態の被覆膜が得られる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

原料を含む液体中に、基材と該基材の被成膜面を覆う複数の貫通孔をもつマスクとを配設する配設工程と、 前記液体中に気泡を発生させる気泡発生工程と、 前記原料からなるプラズマを前記気泡に発生させるプラズマ発生工程と、 を経て、前記プラズマを内包する前記気泡を前記マスクを通じて前記被成膜面に接触させて、該被成膜面に前記原料の分解成分を堆積させることを特徴とする液中プラズマを用いた成膜方法。

IPC (2件)：

C23C 16/505 ,  C23C 16/04

FI (2件)：

C23C16/505 ,  C23C16/04

Fターム (9件)：

4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030BB14 ,  4K030CA02 ,  4K030CA17 ,  4K030EA00 ,  4K030FA01 ,  4K030KA01 ,  4K030KA08

引用特許：

出願人引用 (4件)

• プラズマを発生させる方法およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-098193   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-313979   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• シリコン酸化膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-099536   出願人：株式会社豊田自動織機, 国立大学法人愛媛大学
• 保護膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-275698   出願人：財団法人理工学振興会

審査官引用 (4件)

• 保護膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-275698   出願人：財団法人理工学振興会
• シリコン酸化膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-099536   出願人：株式会社豊田自動織機, 国立大学法人愛媛大学
• 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-313979   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• プラズマを発生させる方法およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-098193   出願人：株式会社テクノネットワーク四国