特許
J-GLOBAL ID：201003083869892911

次亜臭素酸塩による水処理

発明者：
コリオス グリゴリオス

コリオス グリゴリオス について

, 
ヨハン ユルゲン

ヨハン ユルゲン について

, 
ビッセン モニク

ビッセン モニク について

, 
ミューラー アンドレアス

ミューラー アンドレアス について


出願人/特許権者：
クリスト ウォーター テクノロジー アクチェン ゲゼルシャフト

クリスト ウォーター テクノロジー アクチェン ゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-513704
公開番号（公開出願番号）：特表2010-531724
出願日： 2008年06月10日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
水中に存在する無機および/または有機種を分離除去する複数の処理段階に水流を通過させる水処理、特に超純水の生産のための方法であって、次亜臭素酸水溶液が、上記段階の少なくとも一つにおいて、水流に添加される方法が記載される。さらに、水流から、無機および/または有機種を分離除去するための一つ以上の手段を含む、前記のような方法を実施するための水処理システムであって、少なくとも一つの次亜臭素酸塩供給ラインを介して前記水流に接続される、次亜臭素酸液を生成するための少なくとも一つの装置によって特徴付けられるシステムが記載される。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
水中に存在する無機および/または有機種を分離除去する複数の処理段階に水流を通過させる水処理方法、特に超純水の生産方法であって、次亜臭素酸水溶液が、前記段階の少なくとも一つにおいて、前記水流に添加される方法。
IPC (8件)：
C02F 1/76 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/32 ,  C02F 9/00
FI (17件)：
C02F1/76 Z ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/44 J ,  C02F1/42 B ,  C02F1/70 Z ,  C02F1/20 A ,  C02F1/32 ,  C02F9/00 502F ,  C02F9/00 502G ,  C02F9/00 502J ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 502Z ,  C02F9/00 503B ,  C02F9/00 504B ,  C02F9/00 504E ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 502D
Fターム (60件)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006KA01 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB14 ,  4D006KB17 ,  4D006KB30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB28 ,  4D006PC02 ,  4D025AA01 ,  4D025AB07 ,  4D025AB38 ,  4D025BB02 ,  4D025BB04 ,  4D025DA01 ,  4D025DA02 ,  4D025DA03 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA08 ,  4D037AA03 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037CA01 ,  4D037CA02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA09 ,  4D037CA11 ,  4D037CA14 ,  4D037CA15 ,  4D037CA16 ,  4D050AA05 ,  4D050AA20 ,  4D050AB17 ,  4D050AB44 ,  4D050AB46 ,  4D050BA20 ,  4D050BB03 ,  4D050BB06 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA03 ,  4D050CA06 ,  4D050CA07 ,  4D050CA08 ,  4D050CA09 ,  4D050CA12 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM