特許
J-GLOBAL ID:201003088179332532

レーザー駆動粒子線照射装置およびレーザー駆動粒子線照射方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 波多野 久 ,  関口 俊三 ,  猿渡 章雄 ,  河村 修 ,  山田 毅彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-301695
公開番号(公開出願番号):特開2010-125012
出願日: 2008年11月26日
公開日(公表日): 2010年06月10日
要約:
【課題】レーザー駆動粒子線を用いた治療照射を可能にすると共に、レーザー駆動粒子線を患者の患部まで輸送する過程でレーザー駆動粒子線の強度低下を抑えつつ集束性を高めることができるレーザー駆動粒子線照射技術を提供すること。【解決手段】ターゲット101にレーザーパルス光102を照射してレーザー駆動粒子線103を射出する粒子線発生装置1と、この射出されたレーザー駆動粒子線103を患者の患部9へと導く輸送路を形成し、レーザー駆動粒子線103を空間的に集束させるビーム集束装置2と、このレーザー駆動粒子線103のエネルギーおよびエネルギー幅を選択するエネルギー選択装置3と、レーザー駆動粒子線103を走査して患部9の照射位置を調節する照射ポート4と、各装置1〜4の動作制御を行う照射制御装置6とを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ターゲットにレーザーパルス光を照射してレーザー駆動粒子線を射出する粒子線発生装置と、この射出されたレーザー駆動粒子線を被照射体へと導く輸送路を形成し、レーザー駆動粒子線を空間的に集束させるビーム集束装置と、このレーザー駆動粒子線のエネルギーおよびエネルギー幅を選択するエネルギー選択装置と、レーザー駆動粒子線を走査して被照射体の照射位置を調節する照射ポートと、各装置の動作制御を行う照射制御装置とを備え、 前記ビーム集束装置は、レーザー駆動粒子線の軌道上に、軌道中心から遠ざかるレーザー駆動粒子線の発散成分を軌道中心へと戻す磁場を形成し、この磁場によりレーザー駆動粒子線を集束させることを特徴とするレーザー駆動粒子線照射装置。
IPC (1件):
A61N 5/10
FI (1件):
A61N5/10 H
Fターム (10件):
4C082AA10 ,  4C082AC05 ,  4C082AE02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG22 ,  4C082AG23 ,  4C082AG32 ,  4C082AG44 ,  4C082AN02 ,  4C082AP02
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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