特許
J-GLOBAL ID：201003088883493185

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ

バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ について

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ブリーカー,アーノ,ジャン

ブリーカー,アーノ,ジャン について

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モールス,ヨハネス,フベルトゥス,ヨセフィナ

モールス,ヨハネス,フベルトゥス,ヨセフィナ について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-504004
公開番号（公開出願番号）：特表2010-525570
出願日： 2008年04月18日
公開日（公表日）： 2010年07月22日
要約：
マスクレスEUVアプリケーションのためのリソグラフィ装置は、放射ビームを調整し、調整された放射ビームを空間光変調器に供給する照明システムと、基板を保持する基板テーブルと、調整された放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。照明システムは、調整された放射ビームのフィールドを画定するフィールドファセットミラーを含む。フィールドファセットミラーは、放射源と照明システムとを光学的に一致させる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板に放射ビームを投影するEUVマスクレスアプリケーションのためのリソグラフィ投影装置であって、前記装置は、放射ビームを調整し、該調整された放射ビームを空間光変調器に供給する照明システムを含み、該照明システムは、前記調整された放射ビームのフィールドを画定するフィールドファセットミラーを含み、該フィールドファセットミラーは、放射源と前記照明システムとを光学的に一致させる、リソグラフィ装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 531A ,  H01L21/30 527
Fターム (4件)：
5F046CB02 ,  5F046CB08 ,  5F046GB01 ,  5F046GB07
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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