特許
J-GLOBAL ID:201003090642429146
回路パターン検査装置、および回路パターンの検査方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-195606
公開番号(公開出願番号):特開2010-032403
出願日: 2008年07月30日
公開日(公表日): 2010年02月12日
要約:
【課題】 半導体装置のメモリマット部の最周辺部や、繰り返し性の無い周辺回路まで高感度に欠陥判定できる検査技術を提供する。【解決手段】 繰り返しパターンを有する複数のダイで構成された回路パターンの画像を取得する画像検出部、取得した検出画像について、繰り返しパターンの領域とそれ以外の領域とに応じて加算対象を切り替えて参照画像を合成し、検出画像と比較して欠陥を検出する欠陥判定部、検出された欠陥の画像を表示する表示装置を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
繰り返しパターンを有する複数のダイで構成された回路パターンの画像を取得する画像検出部、該取得した検出画像について、前記繰り返しパターンの領域とそれ以外の領域とに応じて加算対象を切り替えて参照画像を合成し、検出画像と比較して欠陥を検出する欠陥判定部を備えたことを特徴とする回路パターン検査装置。
IPC (4件):
G01N 21/956
, G01N 23/225
, H01L 21/66
, G06T 1/00
FI (4件):
G01N21/956 A
, G01N23/225
, H01L21/66 J
, G06T1/00 305A
Fターム (45件):
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001BA15
, 2G001CA03
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001GA06
, 2G001HA05
, 2G001HA13
, 2G001JA11
, 2G001JA16
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001PA11
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC21
, 2G051CA04
, 2G051DA05
, 2G051EC02
, 2G051EC03
, 2G051ED11
, 2G051FA01
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DB07
, 4M106DB18
, 4M106DB20
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 5B057AA03
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CC02
, 5B057CE06
, 5B057DA03
, 5B057DA16
, 5B057DC05
, 5B057DC33
, 5B057DC36
引用特許:
出願人引用 (7件)
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特開平3-232250号公報
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特開平3-232250
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外観検査方法及び検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-018990
出願人:シャープ株式会社
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審査官引用 (7件)
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