特許
J-GLOBAL ID：200903000721962429

パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法

発明者：
松井 繁

松井 繁 について

, 
鈴木 克弥

鈴木 克弥 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-398312
公開番号（公開出願番号）：特開2005-156475
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 被検査物体上に透明薄膜でパターンが形成されていて、その透明薄膜の膜厚が被検査物体上の位置によって変化している場合においても、高い検査精度で欠陥を検出できるパターン欠陥検査装置を提供する。 【解決手段】 被検査物体上に行列方向に等間隔で連続的に配列された同一形状を有するパターンをイメージセンサを走査して得られる検出画像とその行列方向に隣接する同一形状のパターンを走査して得られる参照画像とを比較して欠陥を検出するパターン欠陥検査装置である。このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接8チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被検査物体上に行列方向に等間隔で連続的に配列された同一形状を有するパターンをイメージセンサを走査して得られる検出画像とその行列方向に隣接する同一形状のパターンを走査して得られる参照画像とを比較して欠陥を検出するパターン欠陥検査装置において、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下の最近接4チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  G06T5/50 ,  H01L21/66
FI (4件)：
G01N21/956 A ,  G06T1/00 305D ,  G06T5/50 ,  H01L21/66 J
Fターム (31件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BC05 ,  2G051CA03 ,  2G051CD03 ,  2G051DA05 ,  2G051EC03 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA20 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB12 ,  4M106DB13 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC01 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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