膜厚測定装置及び測定方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 石田悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-078772
公開番号（公開出願番号）：特開2010-230515
出願日： 2009年03月27日
公開日（公表日）： 2010年10月14日
要約：

【課題】膜状の測定対象物の膜厚の時間変化を精度良く測定することが可能な膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供する。【解決手段】第1波長λ1の測定光成分、及び第2波長λ2の測定光成分を含む測定光を測定対象物15へと供給する測定光源28と、測定対象物15の上面からの反射光及び下面からの反射光の干渉光について、第1波長λ1の干渉光成分、及び第2波長λ2の干渉光成分に分解する分光光学系30と、第1、第2干渉光成分のそれぞれの各時点での強度を検出する光検出器31、32と、膜厚解析部40とを有して膜厚測定装置1Aを構成する。膜厚解析部40は、第1干渉光成分の検出強度の時間変化での第1位相と、第2干渉光成分の検出強度の時間変化での第2位相との位相差に基づいて、測定対象物15の膜厚の時間変化を求める。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

第1面及び第2面を有する膜状の測定対象物の膜厚の時間変化を測定する膜厚測定装置であって、第1波長を有する第1測定光成分、及び前記第1波長とは異なる第2波長を有する第2測定光成分を少なくとも含む測定光を前記測定対象物へと供給する測定光源と、前記測定光の前記測定対象物の前記第1面からの反射光、及び前記第2面からの反射光が干渉した干渉光について、前記第1波長の第1干渉光成分、及び前記第2波長の第2干渉光成分に分解する分光手段と、前記第1干渉光成分、及び前記第2干渉光成分のそれぞれの各時点での強度を検出する検出手段と、前記第1干渉光成分の検出強度の時間変化における第1位相と、前記第2干渉光成分の検出強度の時間変化における第2位相との位相差に基づいて、前記測定対象物の膜厚の時間変化を求める膜厚解析手段とを備えることを特徴とする膜厚測定装置。

IPC (1件)：

G01B 11/06

FI (1件)：

G01B11/06 G

Fターム (40件)：

2F065AA03 , 2F065AA07 , 2F065AA14 , 2F065AA26 , 2F065AA30 , 2F065CC19 , 2F065CC31 , 2F065DD04 , 2F065DD16 , 2F065FF04 , 2F065FF41 , 2F065FF52 , 2F065GG07 , 2F065GG21 , 2F065GG23 , 2F065GG24 , 2F065JJ05 , 2F065JJ07 , 2F065JJ18 , 2F065JJ19 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL02 , 2F065LL12 , 2F065LL22 , 2F065LL28 , 2F065LL42 , 2F065LL67 , 2F065NN20 , 2F065PP12 , 2F065PP13 , 2F065QQ01 , 2F065QQ08 , 2F065QQ16 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ29 , 2F065RR09 , 2F065TT06 , 2F065TT08

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-122906
膜厚測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-309797 出願人：キヤノン株式会社
半導体基板の平坦化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-037627 出願人：松下電器産業株式会社

全件表示

前のページに戻る