特許
J-GLOBAL ID:201003098243317564
ネガ型感光性材料およびそれを用いた感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
西藤 征彦
, 井▲崎▼ 愛佳
, 西藤 優子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-127715
公開番号(公開出願番号):特開2010-276775
出願日: 2009年05月27日
公開日(公表日): 2010年12月09日
要約:
【課題】低線膨張係数および低吸湿膨張係数を両立し、パターン形成する際の階調性およびPIエッチング性に優れたネガ型感光性材料およびそれを用いた感光性基材を提供する。【解決手段】(A)特定の構造単位を有するポリイミド前駆体および(B)特定のピリジン誘導体を含有するネガ型感光性材料、さらに、支持基材の表面に、上記ネガ型感光性材料からなる塗膜層が形成されてなる感光性基材。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記の(A)および(B)成分を含有することを特徴とするネガ型感光性材料。
(A)下記の一般式(1)で表される構造単位、および、下記の一般式(2)で表される構造単位を有し、かつ上記一般式(2)で表される構造単位が、ポリイミド前駆体全体の30モル%未満の範囲で含有されているポリイミド前駆体。
IPC (6件):
G03F 7/038
, G03F 7/004
, G03F 7/38
, H01L 21/027
, C08G 73/10
, B32B 27/34
FI (6件):
G03F7/038 504
, G03F7/004 503Z
, G03F7/38 511
, H01L21/30 502R
, C08G73/10
, B32B27/34
Fターム (66件):
2H096AA30
, 2H096BA06
, 2H096EA02
, 2H096FA01
, 2H096GA09
, 2H125AG00P
, 2H125AM73P
, 2H125AN84P
, 2H125AN86P
, 2H125BA28P
, 2H125CA26
, 2H125CB06
, 2H125CC01
, 2H125CC25
, 2H125CD11P
, 2H125CD31
, 4F100AB01C
, 4F100AB04
, 4F100AB13
, 4F100AB17
, 4F100AB33
, 4F100AK49A
, 4F100AR00D
, 4F100AR00E
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100BA05
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA10C
, 4F100EJ15A
, 4F100EJ42A
, 4F100EJ54A
, 4F100GB41
, 4F100JA02A
, 4F100JB14A
, 4F100JG01E
, 4F100JG04D
, 4F100JM02
, 4J043PA08
, 4J043PC145
, 4J043PC146
, 4J043QB31
, 4J043RA06
, 4J043RA35
, 4J043SA06
, 4J043SA47
, 4J043SA54
, 4J043SB03
, 4J043TA22
, 4J043TA71
, 4J043TB01
, 4J043UA121
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UB401
, 4J043UB402
, 4J043VA021
, 4J043VA022
, 4J043VA041
, 4J043VA062
, 4J043XA16
, 4J043YA06
, 4J043ZA35
, 4J043ZB22
引用特許:
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