特許
J-GLOBAL ID:201003099437741096
ミクロポーラス炭素系材料、ミクロポーラス炭素系材料の製造方法及びミクロポーラス系炭素材料を用いた水素吸蔵方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (6件):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-040932
公開番号(公開出願番号):特開2010-115636
出願日: 2009年02月24日
公開日(公表日): 2010年05月27日
要約:
【課題】元来有する細孔機能を維持しながら担持された金属が有する機能を発現可能なミクロポーラス炭素系材料を提供する。【解決手段】ミクロポーラス炭素系材料5であって、0.7nm以上2nm以下の範囲内の3次元の長周期規則構造と、ミクロ細孔2aとを有するミクロポーラス炭素系材料であって、ミクロ細孔2a表面に遷移金属4が担持されている。この材料を、遷移金属を含む多孔質材料の表面及びミクロ細孔内に有機化合物を導入し、この有機化合物を化学気相成長法により炭化して遷移金属を含むミクロポーラス炭素系材料と多孔質材料の複合体を得る工程と、多孔質材料を除去する工程とを有する方法、又は多孔質材料の表面に有機化合物を導入して化学気相成長法によりミクロポーラス炭素系材料を得て、このミクロポーラス炭素系材料を遷移金属塩溶液中に浸漬・含浸し、ミクロポーラス炭素系材料の表面に遷移金属を担持する方法により得る。【選択図】図1
請求項(抜粋):
0.7nm以上2nm以下の範囲内の3次元の長周期規則構造と、ミクロ細孔とを有するミクロポーラス炭素系材料であって、
前記ミクロ細孔表面に遷移金属が担持されていることを特徴とするミクロポーラス炭素系材料。
IPC (4件):
B01J 20/20
, C01B 31/02
, C01B 3/00
, C23C 16/01
FI (4件):
B01J20/20 D
, C01B31/02 101A
, C01B3/00 B
, C23C16/01
Fターム (43件):
4G066AA02B
, 4G066AA04B
, 4G066AA11A
, 4G066AA11D
, 4G066AA61D
, 4G066AB01A
, 4G066AB05A
, 4G066AB09A
, 4G066AB15A
, 4G066AB21A
, 4G066AB23A
, 4G066AB26A
, 4G066BA36
, 4G066CA38
, 4G066DA01
, 4G066FA03
, 4G066FA12
, 4G066FA17
, 4G066FA40
, 4G066GA01
, 4G066GA32
, 4G140AA22
, 4G140AA34
, 4G140AA36
, 4G140AA42
, 4G140AA48
, 4G146AA16
, 4G146AB05
, 4G146AC04A
, 4G146AC05A
, 4G146AC07B
, 4G146AC27B
, 4G146AC28B
, 4G146AD32
, 4G146BA11
, 4G146BC09
, 4K030AA09
, 4K030BA27
, 4K030CA05
, 4K030CA11
, 4K030DA09
, 4K030FA10
, 4K030LA11
引用特許:
引用文献:
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