特許
J-GLOBAL ID：201103001137771640

加硫機

発明者：
大谷 公二

大谷 公二 について

, 
森 保平

森 保平 について


出願人/特許権者：
住友ゴム工業株式会社

住友ゴム工業株式会社 について

, 
リックス株式会社

リックス株式会社 について


代理人 (3件)： 岡 憲吾 ,  住友 教郎 ,  室橋 克義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-299149
公開番号（公開出願番号）：特開2011-136527
出願日： 2009年12月29日
公開日（公表日）： 2011年07月14日
要約：
【課題】省エネルギー効果が高い加硫機の提供。【解決手段】本発明の加硫機は、モールド、上側プラテン、下側プラテン、上側遮熱体及び下側遮熱体を有している、上記上側遮熱体12は、上記上側プラテンの上側に配置されている。上記下側遮熱体14は、上記下側プラテンの下側に配置されている。上記遮熱体12、14は、本体26と断熱部28とを有している。上記断熱部28は、上記本体26によって覆われている。上記断熱部28の物質が、上記本体26の物質とは異なる。好ましくは、上記断熱部28の熱伝導率λ1が、上記本体26の熱伝導率λ2よりも小さい。好ましくは、上記断熱部28がガスである。好ましくは、上記本体26は、凹部を有する基体31と蓋32とを備えている。好ましくは、上記凹部の開口が上記蓋32によって塞がれることにより空洞が形成され、この空洞が上記ガスで満たされている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
モールド、上側プラテン、下側プラテン、上側遮熱体及び下側遮熱体を有し、 上記上側遮熱体が、上記上側プラテンの上側に配置されており、 上記下側遮熱体が、上記下側プラテンの下側に配置されており、 上記遮熱体が、本体と断熱部とを有し、 上記断熱部が、上記本体によって覆われており、 上記断熱部の物質が、上記本体の物質とは異なる加硫機。
IPC (2件)：
B29C 33/04 ,  B29C 35/04
FI (2件)：
B29C33/04 ,  B29C35/04
Fターム (22件)：
4F202AA45 ,  4F202AH20 ,  4F202AJ12 ,  4F202AJ13 ,  4F202AK14 ,  4F202AM26 ,  4F202CA21 ,  4F202CB01 ,  4F202CT01 ,  4F202CY02 ,  4F202CY18 ,  4F203AA45 ,  4F203AB03 ,  4F203AH20 ,  4F203AJ12 ,  4F203AJ13 ,  4F203AR20 ,  4F203DA11 ,  4F203DB01 ,  4F203DC03 ,  4F203DL09 ,  4F203DM23
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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