特許
J-GLOBAL ID:201103002518695823

蛍光X線分析方法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡崎 謙秀
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-256367
公開番号(公開出願番号):特開2001-083109
特許番号:特許第3889187号
出願日: 1999年09月09日
公開日(公表日): 2001年03月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】X線または粒子線の照射により試料から発生する蛍光X線をエネルギースペクトルとして測定し、その実測エネルギースペクトルから試料分析を行う蛍光X線分析方法において、 非対称因子にしたがって対称性および非対称性のエネルギープロファイルを表すことのできる非対称性プロファイル関数を用いて、実測エネルギースペクトルに対するプロファイルフィッティングを行うことを特徴とする蛍光X線分析方法。
IPC (1件):
G01N 23/223 ( 200 6.01)
FI (1件):
G01N 23/223
引用特許:
出願人引用 (13件)
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