特許
J-GLOBAL ID：201103003471084630
マスター情報担体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
池内 寛幸
, 佐藤 公博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-300463
公開番号（公開出願番号）：特開2001-126247
特許番号：特許第3715152号
出願日： 1999年10月22日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 非磁性基体の表面にディジタル情報信号に対応する形状パターンが強磁性薄膜の配列により設けられ、磁気記録媒体表面に接触させることにより前記ディジタル情報信号を前記磁気記録媒体に記録させるためのマスター情報担体の製造方法であって、 前記非磁性基体の表面にフォトレジストにより前記ディジタル情報信号に対応する形状パターンを形成する第一の工程と、 前記フォトレジストをマスクとしてエッチングを行い、前記非磁性基体の表面に前記ディジタル情報信号に対応する形状パターンの凹凸形状を形成する第二の工程と、 前記凹凸形状の凹部内及び前記フォトレジストの表面に強磁性薄膜を堆積する第三の工程と、 前記凹凸形状の凹部に堆積した前記強磁性薄膜を残して、前記フォトレジスト及び前記フォトレジストの表面に堆積した前記強磁性薄膜を除去して、前記非磁性基体の表面に前記ディジタル情報信号に対応する強磁性薄膜パターンを形成する第四の工程と、 前記ディジタル情報信号に対応する前記強磁性薄膜パターンを前記凹凸形状の凹部内に形成した状態で消磁処理を行う第五の工程とを有し、 前記第一の工程から第五の工程が、第一の工程、第二の工程、第三の工程、第四の工程、第五の工程の順序で行われることを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G11B 5/86 101 Z
, G11B 5/86 C
出願人引用 (14件)
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特開平3-274722
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特開平4-143924
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特開平4-230030
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審査官引用 (11件)
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