特許
J-GLOBAL ID：201103005623065494
スピンエッチャーのノズル駆動機構
出願人/特許権者：
有限会社サン・メック
有限会社サン・メック について
代理人 (3件)： 村上 友一 , 大久保 操 , 永山 陽二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-171569
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007077
特許番号：特許第4158132号
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 回転するウェハにエッチング液を供給するノズルの吐出口を前記ウェハ面に対して昇降・旋回させるスピンエッチャーのノズル駆動機構において、エッチング後の水溶液をウェハ外周の外方で受ける中蓋を水平位置より下方に上下動自在にヒンジ結合により取着させて水平位置と下方位置との間で可動させ、かつ、前記ノズルの昇降・旋回をなす支持軸を軸方向移動させるアクチュエータを取り付けるとともに、前記軸にスプライン嵌合するスリーブを設け、このスリーブを回転駆動させる回転アクチュエータを設けることにより、前記回転アクチュエータによる支持軸への回転伝達を維持させつつ前記軸方向移動アクチュエータによる支持軸の単独軸方向移動を可能とし、中蓋が下方位置にあるときにはノズルを旋回して中蓋の外方に退避させ、中蓋が水平位置にあるとき、あるいは、下方位置より水平位置に移動するときには、ノズルを昇降・旋回して中蓋の上側に揺動させ、中蓋を貫通して水溶液をウェハに流下するようにノズルを制御する制御機構を備えたことを特徴とするスピンエッチャーのノズル駆動機構。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
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回転式基板塗布装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願平8-035564 出願人：大日本スクリーン製造株式会社 -
基板処理装置及び基板処理方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願平9-126235 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社 -
ノズルの移動機構
公報種別：公開公報 出願番号：特願平4-173789 出願人：オリジン電気株式会社
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