熱レジストの露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：吉田研二 , 石田純
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331454
公開番号（公開出願番号）：特開2001-155982
特許番号：特許第4469041号
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】予め定めた温度に到達したときに溶解度が変化する熱レジストを備える工程と、 a)第1の焦点設定により上記熱レジストの所定領域を露光する工程及び b)上記第1所定形状の結像化工程後、上記熱レジストの熱時定数よりも長い遅延時間が経過した後に、上記第1の焦点設定とは異なる第2の焦点設定により上記レジストの上記所定領域を露光する工程により上記レジストを露光する工程と、を含むレジストの結像的露光方法。

IPC (2件)：