特許
J-GLOBAL ID：200903045354063203
高解像度投影装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-000791
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228358
出願日： 2000年01月06日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 投影装置の有する迷光のために総露光量が、所望の露光レベルに近づいてしまう可能性がある。また、光学装置により各像パターンから拡散する光が隣接する像パターンを露光する光との間で重なりが生じ、実効的に装置の解像度が低くなる。【解決手段】 相反法則あるいは重ね合わせの原理に従わないサーモレジストを用いて、原像を複数の分割像に分割し、次に原像全体が再生されるまでそれら分割像を個々に露光することによって装置の解像度を改善する。アレイ状のマイクロレンズ群を有する第2のマスクを用いることによって、複数のマスクによらずに像の分離を実現し、またサーモレジスト等、完全に線形の重ね合わせ領域の外にあるレジスト上の像を実現する。これにより、隣接する像パターンを分離して投影が行われ、高解像度の像がレジスト上に転写される。
請求項（抜粋）：
原像を有する第1のマスクに入射する光の経路に挿入可能であり、また、前記原像を複数の像のサブセットに分割する機能を有する装置であって、(a)前記第1のマスクの一部分に光が集束するように形状が形成され、また位置決めされた光学要素から構成される第2のマスクを含み、前記第1のマスクは、複数のセルに分割されており、前記第1のマスクの前記部分は前記セルのサブセットから構成されており、(b)前記第1のマスクの近傍に位置する面内に前記第2のマスクを移動する機能を有する複数のアクチュエータを含み、また(c)前記アクチュエータと共に、前記第1のマスクに対して前記第2のマスクの位置制御を行う機能を有する重ね合わせおよび位置制御装置とを含むことを特徴とする装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 C
, G03F 7/20 521
