特許
J-GLOBAL ID：200903058677517941
高解像度投影方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-000790
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228357
出願日： 2000年01月06日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：
【要約】【課題】 投影装置の有する迷光のために総露光量が、所望の露光レベルに近づいてしまう可能性がある。また、光学装置により各像パターンから拡散する光が隣接する像パターンを露光する光との間で重なりが生じ、実効的に装置の解像度が低くなる。【解決手段】 相反法則あるいは重ね合わせの原理に従わないサーモレジストを用いて、原像を複数の分割像に分割し、次に原像全体が再生されるまでそれら分割像を個々に露光することによって装置の解像度を改善する。アレイ状のマイクロレンズ群を有する第2のマスクを用いることによって、複数のマスクによらずに像の分離を実現し、またサーモレジスト等、完全に線形の重ね合わせ領域の外にあるレジスト上の像を実現する。これにより、隣接する像パターンを分離して投影が行われ、高解像度の像がレジスト上に転写される。
請求項（抜粋）：
第1のマスク上にある原像の複製を像転写面に投影する方法であって、(a)照射用光源と第1のマスクとの間に第2のマスクを挿入する段階を含み、前記第2のマスクはアレイ状の光学要素から構成されており、アレイ状の光学要素は、(i)前記第1のマスク上にあって複数の間隔をあけて配置された露光ポイント上に、前記照射用光源からの光を向けることが可能であり、また(ii)前記像転写面上にあって、対応する複数の露光ポイントを像の形通りに照射し露光することが可能であり、前記対応する複数の露光ポイントは互いに、前記像転写面上の隣接する露光ポイント間の干渉を低減するのに充分なだけ間隔をあけて離してあり、さらに(b)前記第1のマスクと前記第2のマスクとの間において相対的な運動を生成することによって、前記複数の露光ポイントが、前記第1のマスク上にある前記原像のほぼ全てにおいてスキャンされるように、前記原像のほぼ全てを前記像転写面に露光する段階、を含むことを特徴とする方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 C
, G03F 7/20 521
