処理システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森純一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-136733
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331907
特許番号：特許第3485493号
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板上に反射防止膜を塗布するための処理が行われる第1のブロックと、基板上にレジスト膜を塗布するための処理が行われる第2のブロックと、露光されたレジスト膜を現像するための処理が行われる第3のブロックと、これらブロック間で基板を搬送することが実行される第4のブロックとに区分され、前記第1及び第2のブロックについては温度及び湿度を制御し、前記第3のブロックについては温度を制御し、前記第4のブロックについては温度及び湿度を制御せず、さらに、前記第2のブロックは前記第3のブロックより陽圧とされ、前記第3のブロックは前記第4のブロックより陽圧とされ、前記第4のブロックは前記第1のブロックより陽圧とされていることを特徴とする処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502

FI (5件)：

G03F 7/16 502 , G03F 7/30 502 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 569 D

引用特許：

出願人引用 (9件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-065218 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
レジスト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-031248 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-013926 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (2件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-065218 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
レジスト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-031248 出願人：東京エレクトロン株式会社

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