特許
J-GLOBAL ID:201103008103314830

機能素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 外川 英明
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-171838
公開番号(公開出願番号):特開2000-077382
特許番号:特許第3483799号
出願日: 1999年06月18日
公開日(公表日): 2000年03月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】(100)シリコン基板に<100>方向に沿った辺を有するパターンを形成するパターンニング工程と、超音波が印加された水酸化カリウム水溶液を異方性エッチャントとして用いて前記パターンを備えた前記(100)シリコン基板をエッチングし、(100)面に対して45°の角度を有する(110)面を形成するエッチング工程とを備えたことを特徴とする機能素子の製造方法。
IPC (2件):
H01L 21/306 ,  G11B 7/135
FI (2件):
G11B 7/135 Z ,  H01L 21/306 B
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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