化学機械研磨用水系分散体及びそれを用いる化学機械研磨方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小島清路
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-291236
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115143
特許番号：特許第4067250号
出願日： 1999年10月13日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】研磨粒子としてのアルミナ及び/又はシリカと、該研磨粒子を凝集させる凝集促進粒子としての、アルミナ結晶粒とシリカ結晶粒との凝集体、及び/又は、アルミナとシリカの混晶粒と、水と、を含有することを特徴とする化学機械研磨用水系分散体。

IPC (3件)：