特許
J-GLOBAL ID：201103008666104867
膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154630
公開番号（公開出願番号）：特開2000-344893
特許番号：特許第4411688号
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物
R1aSi(OR2)4-a ・・・・・(1)
(R1は水素原子、フッ素原子または1価の有機基を示し、R2は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)
および(A-2)下記一般式(2)で表される化合物
R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・・(2)
(R3、R4、R5およびR6は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R7は酸素原子または-(CH2)n-を示し、dは0または1を示し、nは1〜6の数を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を
(B)下記一般式(3)で表される溶剤
R8O(CHCH3CH2O)dR9 ・・・・・(3)
(R8およびR9は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはCH3CO-から選ばれる1価の有機基を示し、dは1〜2の整数を表す。)
および(C)常圧での沸点が100°C以下のアルコール
の存在下において加水分解して得られた組成物に、さらに、β-ジケトン、ポリアルキレンオキシド構造を有する化合物および(メタ)アクリル系重合体よりなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を添加することを特徴とする膜形成用組成物の製造方法。
IPC (5件)：
C08G 77/06 ( 200 6.01)
, C08G 77/18 ( 200 6.01)
, C08G 77/50 ( 200 6.01)
, C08L 83/04 ( 200 6.01)
, H01B 3/46 ( 200 6.01)
C08G 77/06
, C08G 77/18
, C08G 77/50
, C08L 83/04
, H01B 3/46 D
