特許
J-GLOBAL ID：200903071993946931
照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-221243
公開番号（公開出願番号）：特開2006-324695
出願日： 2006年08月14日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度を最適に選択する。【解決手段】半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度、を選択する方法が開示される。前記方法は、前記各方向の軸外ビームの強度を変数とする、前記ウエハ上で得られるイメージを表す関数を提供するステップと、前記各方向の軸外ビームの強度と、前記関数により表されるイメージの特性との関係を示すメリット関数を提供するステップと、第1の制約に従い、前記メリット関数の値を最適化する、前記各方向の軸外ビームの強度の初期解を求めるステップと、前記第1の制約とは異なる第2の制約に従い、前記初期解に基づいて、前記メリット関数の値をローカル最適化する、前記各方向の軸外ビームの強度の最適解を求めるステップとを含む。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
半導体ウエハ上にイメージを形成するための、レチクルに入射する各方向の軸外ビームの強度、を選択する方法であって、
前記各方向の軸外ビームの強度を変数とする、前記ウエハ上で得られるイメージを表す関数を提供するステップと、
前記各方向の軸外ビームの強度と、前記関数により表されるイメージの特性との関係を示すメリット関数を提供するステップと、
第1の制約に従い、前記メリット関数の値を最適化する、前記各方向の軸外ビームの強度の初期解を求めるステップと、
前記第1の制約とは異なる第2の制約に従い、前記初期解に基づいて、前記メリット関数の値をローカル最適化する、前記各方向の軸外ビームの強度の最適解を求めるステップと、
を含む、方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F046AA06
, 5F046DA01
, 5F046DA02
